一、像差分析与识别

成像质量评估

利用CodeV提供的点列图、波前图、调制传递函数（MTF）等工具，直观分析系统的分辨率、像差等关键指标。

模拟与识别像差

通过软件模拟不同像差（如球差、慧差、像散等），准确识别系统中存在的像差类型及影响程度。

二、设置优化目标与约束条件

定义优化目标

根据设计需求设置目标参数，如分辨率、数值孔径或像差容限。

添加约束条件

- 一般约束：

设置厚度、玻璃类型（如折射率、阿贝数）等基本参数。

- 特殊约束：固定焦距、总长或入瞳直径等关键指标。

三、优化算法与参数调整

选择优化方法

- 使用CodeV的全局优化算法，提升搜索效率并避免局部最优解。

- 可结合局部优化方法进行精细调整。

调整光学元件参数

优化过程中自动调整透镜曲率半径、厚度及材料折射率，实时监控优化进度并手动干预。

四、优化过程管理

使用优化工具

- 利用宏功能批量处理优化任务，提高效率。

- 通过Error Log分析错误报告，针对性修改参数设置。

多目标优化策略

- 先满足基本约束，再通过二次优化提升综合性能。

五、结果验证与迭代

对比分析

与ZEMAX等软件对比优化结果，分析像差曲线差异及优化效果。

迭代优化

根据验证结果调整约束条件或优化目标，重复优化过程直至满足设计要求。

注意事项

硬件资源：

优化时需保证充足内存和CPU性能，避免因资源不足导致优化失败。

替代方案：若CodeV速度较慢，可尝试减少约束条件或分步优化。

通过以上步骤，可系统化地优化光学显微镜系统，提升成像性能。