在Creo软件中，阵列操作可通过以下步骤实现，具体方法根据阵列类型有所不同：

一、基础阵列类型及操作方法

尺寸阵列

- 选择要阵列的特征（如长度、角度等），指定尺寸增量和阵列数量。

- 示例：沿某一方向重复复制特征，每个实例之间保持固定尺寸差。

方向阵列

- 选择平面或线作为基准方向，定义方向增量（角度或长度）及阵列数量。

- 示例：绕基准轴旋转复制特征，形成均匀分布的阵列。

轴阵列

- 选择旋转轴（如基准轴、中心轴等），设置阵列角度和间距。

- 示例：以圆柱中心轴为基准，按指定角度和间距生成多个副本。

填充阵列

- 选择平面或曲面区域，指定填充密度（如均匀分布或按规则间隔）。

- 示例：在平面区域内均匀分布孔洞或特征。

表阵列

- 使用表格定义多维尺寸变化，可动态调整阵列参数。

- 示例：通过修改表格中的尺寸值，实现复杂形状的阵列。

参考阵列

- 基于已有阵列创建新阵列，需满足定位尺寸关系。

- 示例：复制一个轴阵列，并以此为基准生成新阵列。

曲线阵列

- 沿草绘曲线指定间距或数量生成阵列，常用于复杂路径的延伸。

点阵列

- 通过基准点或几何点创建阵列，适用于离散分布的特征。

二、高级应用技巧

多参数控制：

使用关系驱动尺寸（如memb_v、memb_i、lead_v）实现动态调整。

组合阵列：先创建基础阵列，再通过复制/偏移生成更复杂结构。

曲面填充：在阵列基础上创建曲面（如拉伸、扫描），实现三维填充效果。

三、注意事项

特征编组：

多个相关特征需先编组，再统一进行阵列操作。

增量设置：

方向阵列需同时指定角度和距离，轴阵列仅需角度或距离。

预览与修改：

操作后可实时预览效果，调整参数直至满意。

通过以上方法，可灵活实现二维和三维阵列，提升建模效率。建议结合具体需求选择合适类型，并参考官方教程深入学习。